Samsung, ASML ile ortaklığını genişleterek Yüksek NA EUV makineleriyle daha gelişmiş çipler üretecek. Şirket, 12 inçlik yeni nesil fotomasklara geçiş yaparak üretim verimliliğini ve maliyetleri iyileştirecek. Samsung, 2028'e kadar Yüksek NA EUV makinelerini yüksek hacimli DRAM üretimi için kullanmayı planlıyor. Bu teknoloji, yapay zeka çağının gerektirdiği çip inovasyonları için temel oluşturacak.
- Samsung, yapay zeka çağının gerektirdiği gelişmiş mantık ve bellek çiplerini üretmek için ASML ile ortaklığını genişletiyor.
- Şirket, ASML’in Yüksek NA EUV litografi ekipmanlarını kullanacak ve 12 inçlik yeni nesil fotomasklara geçiş yapacak.
- Bu geçiş, üretim verimliliğini artıracak, maliyetleri düşürecek ve en gelişmiş çip üretim düğümlerindeki kısıtlamaları ortadan kaldıracak.
- Samsung, 2028’e kadar Yüksek NA EUV makinelerini yüksek hacimli DRAM üretimi için kullanmayı planlıyor.
Dünyanın önde gelen yarı iletken üreticilerinden Samsung, çip üretim kabiliyetlerini sürekli olarak ileriye taşıyor. Şirket, yapay zeka (AI) çağının ihtiyaç duyduğu daha gelişmiş mantık ve bellek çiplerini üretmek amacıyla Hollandalı yarı iletken ekipman devi ASML ile olan ortaklığını genişlettiğini duyurdu. Bu iş birliği kapsamında Samsung, ASML’in en yeni Yüksek NA EUV (Aşırı Morötesi) litografi ekipmanlarından faydalanacak.
Yüksek NA EUV ve Yeni Nesil Fotomasklar
Samsung, bu yeni teknolojiye uyum sağlamak için ASML’in Yüksek NA EUV litografi sistemlerini kullanacak. Buna ek olarak şirket, on yıllardır kullanılan 6 inçlik standarttan ayrılarak, yeni nesil 12 inçlik fotomaskların benimsenmesi yönündeki bir endüstri girişimine de katılıyor. Bu dönüşüm, çip üretim tesislerinin (fab) verimliliğini artırmayı, üretim maliyetlerini düşürmeyi ve en gelişmiş çip üretim düğümlerinde karşılaşılan dikiş (stitching) kısıtlamalarını ortadan kaldırmayı hedefliyor.
Samsung, bu geçişi desteklemek için gerekli maske teknolojilerini ve altyapısını geliştirmek üzere endüstri ortaklarıyla yakın bir şekilde çalışacak. Bu adımlar, gelecekteki çip üretim süreçlerinde önemli iyileştirmeler vaat ediyor.
DRAM Üretiminde Devrim
Samsung, Yüksek NA EUV teknolojisini sadece mantık çiplerinde değil, DRAM üretiminde de kullanmayı planlıyor. Şirket, 2028 yılına kadar bu gelişmiş makineleri yüksek hacimli DRAM üretimi için kullanmayı hedefliyor. Bu, Yüksek NA EUV’nin DRAM üretimi için endüstrideki ilk kullanımı olacak.
Bu hamle, bellek ölçeklendirme yol haritasını genişletecek, üretim adımlarını basitleştirecek ve genel üretim verimliliğini artıracak. Samsung Electronics Başkan Yardımcısı ve CEO’su Young Hyun Jun, yapay zeka çağının tüm çip değer zincirinde inovasyon gerektirdiğini belirtti. Jun, ASML ile genişletilen ortaklığın, Samsung’un yapay zeka donanımı ve yarı iletken üretimindeki gelecekteki liderliğinin temelini oluşturduğunu ekledi.
